Technologia

Metoda PVD (Physical Vapour Deposition) to nanoszenie cienkich warstw poprzez ich fizyczne osadzanie z fazy gazowej. Proces przeprowadzany jest w powlekarkach w temperaturze: od 200 °C do 450 °C. 

Wielowarstwowe powłoki PVD nanoszone w Galactic zapewniają narzędziom skrawającym:

• wydłużenie żywotności narzędzi oraz lepszą jakość obrabianej powierzchni,
• zwiększoną odporność termiczną i chemiczną – osiąganie większych prędkości skrawania nawet przy obróbce na sucho,
• optymalny stosunek twardości do naprężeń własnych – równomierne zużywanie się powierzchni.

Metoda PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition) to nanoszenie nanocienkich warstw z wykorzystaniem plazmy. Zalety stosowania powłok ochronnych PECVD:
• polepszenie własności trybologicznych i zwiększona odporność na zużycie,
• powłoki o niskim współczynniku tarcia,
• odporność na wysokie temperatury, nawet do 1000 OC,
• powłoki dekoracyjne,
• wysoka adhezja powłoki do podłoża.

OBRÓBKA DUPLEX to jeden proces, który stanowi połączenie azotowania plazmowego i nanoszenia powłok ochronnych w technologii PECVD.

Obróbka DUPLEX jest stosowana w celu:

• wydłużenia żywotności detali uzyskania optymalnego podłoża dla twardych powłok dzięki azotowaniu,
• polepszenia własności trybologicznych i zwiększenia odporności na zużycie,
• zwiększenia odporności na temperatury.

DLC (Diamond-Like Carbon) to powłoki diamentopodobne, które cechują się:

• wysoką twardością,
• niewielkim współczynnikiem tarcia,
• zwiększoną odpornością na czynniki chemiczne,
• wysokim walorem estetycznym

CIMO (Carbon Implanted Metal Oxide) - technologia implantacji strukturami węgla amorficznego warstw tlenków metalu, która umożliwia:

• wykonywanie filtracji strumienia plazmy
• wytwarzanie w pełni kontrolowalnych nanostrukturalnych powłok
• uzyskanie innowacyjnych własności fizykochemicznych pokrycia